等离子工艺处理的研发需要多功能且可靠的等离子处理系统。为了满足等离子研究日新月异的要求,用户选购的系统设备满足大范围的等离子工艺参数需要,工艺验证需要极其高的可重复性,必须方便改造用于新的等离子工艺需要。我们相信BM8-II反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVC
产品货号:BM8-II 产地:原装进口反应离子刻蚀(RIE)/沉积(P 价格:询价 点击数:2088 商家询价
VHF系列圆筒型腔体台式反应离子刻蚀(RIE)系统定义了一个新的台式反应离子刻蚀(RIE)系统圆筒型等离子处理方式。 该台式反应离子刻蚀(RIE)系统是基于台式反应离子刻蚀(RIE)系统模块化设计理念,用一个通用的圆筒型台式反应离子刻蚀(RIE)系统作为基础反应离子刻蚀(RIE
产品货号:VHF 产地:原装进口台式反应离子刻蚀(RIE)系统 价格:询价 点击数:1663 商家询价